Félig újrahasznosított gázzal biztosítaná a lapkagyártás stabilitását a félvezetőipari megvilágítási rendszereket gyártó Gigaphoton.
A japán Gigaphoton bejelentette a mély-ultraibolya (DUV) litográfiában használt argon-fluorid (ArF) excimer lézerekhez tervezett hTGM gázújrahasznosító berendezését. A kifejlesztett eljárás tesztjei alapján a megvilágítási folyamat során felhasznált nemesgáz mintegy fél része sikeresen visszanyerhető és újra felhasználható a tiszta terekben.
Stratégiai alapanyag a chipgyártó tiszta terekben
A félvezetőgyártás mély-ultraibolya litográfiai fázisában működő ArF és KrF excimer lézerek működtetése jelentős mennyiségű neongázt igényel. A nemzetközi ipari adatok szerint a globális nemesgáz-kibocsátás csaknem 70 százalékát a félvezetőszektor használja fel. Mivel az ellátási láncok az elmúlt évek geopolitikai feszültségei és regionális konfliktusai miatt többször is megszakadtak, a finomított nemesgázok ára komoly ingadozást mutatott, ami veszélyeztette a gyártósorok folyamatos működését.
A Gigaphoton által bemutatott hTGM rendszer közvetlenül a lapkagyártó üzemekben, helyben képes összegyűjteni és megtisztítani a használt gázt. A vállalat adatai szerint egyetlen újrahasznosító egység akár öt ArF lézerberendezés kiszolgálására is képes, amivel évente megközelítőleg 470 kiloliter neongáz megtakarítása érhető el.
Rugalmas integráció és ipari hatékonyság
Az új ArF újrahasznosító berendezés hardveres architektúrája jelentős mértékben megegyezik a korábban KrF lézerekhez kifejlesztett változattal. Ez a technológiai modularitás lehetővé teszi a félvezetőgyártók számára, hogy gyorsan és alacsonyabb tőkeigénnyel állítsák át létező gyártósoraikat a fenntarthatóbb üzemeltetésre.
A neongáz helyi visszanyerése nem csupán a nyersanyagköltségek érdemi mérséklését teszi lehetővé, hanem közvetlenül növeli az ellátási lánc ellenállóképességét is. A félvezetőgyártó berendezések piacán jelen lévő más szereplők szintén dolgoznak hasonló elven működő tisztítórendszereken, ami jelzi, hogy a zárt láncú gázgazdálkodás alapkövetelménnyé válik a modern fab-üzemeltetésben.
A litográfiai folyamatok hatékonyságának növelése és a környezeti terhelés csökkentése mellett az ilyen jellegű berendezések közvetett védelmet nyújtanak a fogyasztói elektronikai termékek piacának is a váratlan alkatrészhiányok és drágulások ellen.
