samsung

Halasztja a High-NA EUV bevezetését a Samsung: az 1 nm jelenti az új határt

Milliárdos berendezések várakoznak a háttérben, miközben a Samsung elhalasztja a legújabb chipgyártási technológia éles bevetését. A dél-koreai óriáscég a TSMC stratégiáját követve csak az 1 nanométeres csíkszélesség elérésekor tereli tömeggyártásba a méregdrága High-NA EUV berendezéseket. A szakértők szerint a jelenleg elérhető legfejlettebb litográfiai eszközök még nem állnak készen arra, hogy gazdaságosan szolgálják ki a piaci…

Read Full News
samsung

Két év halasztás a chipháborúban: 2029-re csúszik a Samsung legújabb csodafegyvere

Súlyos milliárdok sorsa dől el: a Samsung 2029-re halasztotta a legfejlettebb chipjeinek tömeggyártását az élesedő piaci versenyben. A dél-koreai óriásvállalat eredetileg 2027-re, majd később 2028-ra tervezte az 1,4 nanométeres (SF1.4) csomópont éles bevetését, ám a legfrissebb iparági jelentések szerint a menetrend radikálisan átalakult. A háttérben nem technológiai kudarc, hanem kőkemény üzleti stratégia és az erőforrások…

Read Full News
High-NA EUV kvantumchip

A kvantumszámítás jövője: Világelső szilícium qubit eszköz készült High-NA EUV litográfiával

A félvezetőgyártó ipar egyik legfontosabb kutatóközpontja, az imec, bemutatta a világ első olyan szilícium kvantumpont spin qubit eszközét, amelyet a legmodernebb High-NA EUV (magas numerikus apertúrájú extrém ultraviola) litográfia alkalmazásával építettek meg. Ez az eredmény az első olyan integrált hardvereszköz a világon, amely ezzel a következő generációs finomvonalas mintázó technológiával készült. A fejlesztés alapjaiban változtathatja…

Read Full News