High-NA EUV Archívum

A TSMC 2030-ban indítja el a High-NA EUV litográfiát: az A10 és A11 eljárás a fő jelölt

Muranyi Zoltan2026.09.10.2026.09.09.04 mins

Évekig tartó halogatás után végül meghatározta a szuperfejlett chipgyártó berendezések bevezetésének pontos menetrendjét a félvezetőipar piacvezetője. A TSMC hivatalosan is megerősítette, hogy 2030-ban kezdi meg a High-NA EUV litográfia tömegtermelésbeli alkalmazását. A döntés értelmében az elsődleges célpontot az 1 nanométeres osztályba tartozó A10, illetve az azt követő A11 gyártástechnológia jelenti majd. Költséghatékonyság és óvatosság a…

Teljes cikk

Elfogadták a chipgyártók az ASML 400 millió dolláros berendezéseit: Döntő váltás jön a félvezetőiparban

Muranyi Zoltan2026.09.10.2026.09.09.04 mins

Egyetlen közös lépéssel elhárították a mesterséges intelligenciához szükséges óriási chipek gyártásának legnagyobb technológiai akadályát. A világ vezető félvezetőgyártói megállapodtak az ASML legújabb, darabonként nagyjából 400 millió dollárba kerülő High-NA EUV litográfiai gépeinek kiterjedt használatáról és egy kulcsfontosságú gyártási szabványváltásról. Az iparági egyezség értelmében a chipgyártók a korábbi 6 hüvelykes fotomaszkokról 12 hüvelykes méretre állnak át,…

Teljes cikk

Halasztja a High-NA EUV bevezetését a Samsung: az 1 nm jelenti az új határt

Muranyi Zoltan2026.08.13.2026.08.13.04 mins

Milliárdos berendezések várakoznak a háttérben, miközben a Samsung elhalasztja a legújabb chipgyártási technológia éles bevetését. A dél-koreai óriáscég a TSMC stratégiáját követve csak az 1 nanométeres csíkszélesség elérésekor tereli tömeggyártásba a méregdrága High-NA EUV berendezéseket. A szakértők szerint a jelenleg elérhető legfejlettebb litográfiai eszközök még nem állnak készen arra, hogy gazdaságosan szolgálják ki a piaci…

Teljes cikk

Két év halasztás a chipháborúban: 2029-re csúszik a Samsung legújabb csodafegyvere

Murányi Zoltán2026.07.02.2026.07.02.04 mins

Súlyos milliárdok sorsa dől el: a Samsung 2029-re halasztotta a legfejlettebb chipjeinek tömeggyártását az élesedő piaci versenyben. A dél-koreai óriásvállalat eredetileg 2027-re, majd később 2028-ra tervezte az 1,4 nanométeres (SF1.4) csomópont éles bevetését, ám a legfrissebb iparági jelentések szerint a menetrend radikálisan átalakult. A háttérben nem technológiai kudarc, hanem kőkemény üzleti stratégia és az erőforrások…

Teljes cikk

A kvantumszámítás jövője: Világelső szilícium qubit eszköz készült High-NA EUV litográfiával

Murányi Zoltán2026.05.27.2026.05.26.05 mins

A félvezetőgyártó ipar egyik legfontosabb kutatóközpontja, az imec, bemutatta a világ első olyan szilícium kvantumpont spin qubit eszközét, amelyet a legmodernebb High-NA EUV (magas numerikus apertúrájú extrém ultraviola) litográfia alkalmazásával építettek meg. Ez az eredmény az első olyan integrált hardvereszköz a világon, amely ezzel a következő generációs finomvonalas mintázó technológiával készült. A fejlesztés alapjaiban változtathatja…

Teljes cikk

Karbonszálas Viper és DeathAdder V4 Pro egeren dolgozhat a Razer

Lendületből tör be az okosotthon-piacra az Apple az új HomeView rendszerrel

iPhone Duo vs. iPhone 18 Pro: Mekkora a különbség a kamerák között?

Lőfegyverrel juttatná az űrbe a rakományt egy kaliforniai startup

Megvásárolható a God of War Laufey gyűjtői csomagja, de a szoftver hiányzik belőle

Saját szavaival finomíthatja a Facebook hírfolyamát az új AI-funkcióval

Új márkák nélkül a túlélésért küzd az Xbox a vezérigazgató szerint

20 millió dolláros ajánlattal szerezné meg a Disney a csődbe ment Character.AI technológiáját

Saját motorra vált a RimWorld, akár négyszeres sebességnövekedést ígérve

Így működik az NVIDIA DLSS technológia a gyakorlatban

High-NA EUV

A TSMC 2030-ban indítja el a High-NA EUV litográfiát: az A10 és A11 eljárás a fő jelölt

Elfogadták a chipgyártók az ASML 400 millió dolláros berendezéseit: Döntő váltás jön a félvezetőiparban

Halasztja a High-NA EUV bevezetését a Samsung: az 1 nm jelenti az új határt

Két év halasztás a chipháborúban: 2029-re csúszik a Samsung legújabb csodafegyvere

A kvantumszámítás jövője: Világelső szilícium qubit eszköz készült High-NA EUV litográfiával