Intel Bowers Campus: Hatalmas gyárbővítéssel biztosítják a jövő EUV-maszkjait
Saját kézbe veszi a legfejlettebb chipgyártó maszkok készítését az Intel, miután megkezdődött a Bowers Campus bővítése. A kaliforniai Santa Clarában található Intel-létesítményben az EUV és High-NA EUV litográfiához szükséges fotómaszkok gyártókapacitását növelik. Kényszerpálya vagy tudatos időzítés a Szilícium-völgyben? A hivatalos alapkőletételi ceremónia, amelyen Lip-Bu Tan vezérigazgató és a vállalat felsővezetése is részt vett, pontosan illeszkedik…